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崗位職責(zé)：
1.負(fù)責(zé)課題組紫外及電子束光刻、鍍膜、刻蝕、封裝、測(cè)量等微納加工工藝的操作和研發(fā)；
2.負(fù)責(zé)課題組量子計(jì)算器件和芯片的微納加工工藝的研發(fā)和優(yōu)化，包括芯片版圖設(shè)計(jì)、微納加工以及器件性能的測(cè)試表征；
3.負(fù)責(zé)課題組芯片器件測(cè)試結(jié)果的總結(jié)與反饋，形成數(shù)據(jù)庫(kù)，持續(xù)反饋改進(jìn)工藝；
4.負(fù)責(zé)課題組部分微納加工設(shè)備的管理和維護(hù)；
5.與課題組團(tuán)隊(duì)成員緊密協(xié)作，確保課題組項(xiàng)目按時(shí)、高質(zhì)量完成；
6.關(guān)注課題組的研究方向的行業(yè)新技術(shù)動(dòng)態(tài)，持續(xù)提升自身的技術(shù)能力和創(chuàng)新能力。
任職要求：
1.具有碩士及以上學(xué)歷，物理、微電子、機(jī)械、電氣自動(dòng)化及材料等相關(guān)專(zhuān)業(yè)；通過(guò)大學(xué)英語(yǔ)四級(jí)考試；
2.有超凈間使用經(jīng)驗(yàn)，對(duì)微納加工技術(shù)和設(shè)備有比較深入了解，能夠深入闡述相關(guān)原理，設(shè)備結(jié)構(gòu)及運(yùn)作機(jī)理；
3.有電子束曝光機(jī)、光刻機(jī)設(shè)備、薄膜沉積、材料刻蝕、樣品處理、器件測(cè)試等工作經(jīng)驗(yàn)的優(yōu)先考慮；
4.有標(biāo)準(zhǔn)CMOS工藝經(jīng)驗(yàn)的優(yōu)先考慮；
5.能獨(dú)立進(jìn)行微納加工工藝的開(kāi)發(fā)、優(yōu)化，具有完整的工藝研發(fā)和論證經(jīng)驗(yàn)；
6.能夠熟練閱讀英文文獻(xiàn)和儀器設(shè)備英文手冊(cè)，用英文進(jìn)行基本的專(zhuān)業(yè)交流；
7.具備較強(qiáng)的團(tuán)隊(duì)合作精神和奉獻(xiàn)精神，專(zhuān)心于技術(shù)支持的本職工作，嚴(yán)謹(jǐn)踏實(shí)。