位職責(zé)：
1. 負(fù)責(zé)晶圓制造過(guò)程中清洗工藝（包含濕法清洗、兆聲波清洗、刷洗等）的日常量產(chǎn)維護(hù)與管理。
2. 監(jiān)控并分析清洗工序的良率（Yield）、缺陷（Defect）、顆粒（Particle）及金屬殘留，主導(dǎo)良率提升與缺陷改善項(xiàng)目。
3. 負(fù)責(zé)清洗工藝參數(shù)的優(yōu)化（如藥液配比、溫度、時(shí)間、兆聲波功率等），通過(guò) DOE 實(shí)驗(yàn)設(shè)計(jì)解決工藝瓶頸。
4. 與設(shè)備部門(mén)協(xié)作，負(fù)責(zé)清洗機(jī)臺(tái)的PM（預(yù)防性維護(hù)）計(jì)劃制定、設(shè)備調(diào)試及異常處理，確保產(chǎn)線穩(wěn)定運(yùn)行。
5. 負(fù)責(zé)清洗化學(xué)品及耗材（如清洗劑、刷子、濾芯等）的評(píng)估、驗(yàn)證與導(dǎo)入。
6. 撰寫(xiě)并維護(hù)工藝技術(shù)文檔（SOP、SIP、工藝報(bào)告等），確保符合 ISO/TS 及公司質(zhì)量管理體系要求。
任職要求：
1. 有 1-3 年半導(dǎo)體晶圓廠（Foundry/IDM）或封測(cè)廠濕法工藝/清洗工藝經(jīng)驗(yàn)者優(yōu)先；
2.具備較強(qiáng)的邏輯思維能力和問(wèn)題分析解決能力；
3. 熟悉 盛美（ACM）、DNS、TEL 等主流清洗設(shè)備者優(yōu)先。