崗位職責(zé):
1.負(fù)責(zé)8寸晶圓CMP工藝的開(kāi)發(fā);
2.保障CMP及相關(guān)工序工藝開(kāi)發(fā)參數(shù)準(zhǔn)確穩(wěn)定;
3.解決CMP及相關(guān)工序工藝開(kāi)發(fā)過(guò)程中出現(xiàn)的問(wèn)題;
4.負(fù)責(zé)CMP及相關(guān)工序機(jī)臺(tái)測(cè)試項(xiàng)目及spec系統(tǒng)建立;
5.負(fù)責(zé)CMP及相關(guān)工序線上產(chǎn)品流片過(guò)程中監(jiān)測(cè)項(xiàng)目及spec;
6.建立系統(tǒng)化CMP及相關(guān)工序工藝生產(chǎn)作業(yè)流程,為研發(fā)遇到的問(wèn)題提供解決方案;
7.與設(shè)備工程師及操作員合作解決CMP及相關(guān)工藝生產(chǎn)中遇到的問(wèn)題;
8.負(fù)責(zé)CMP及相關(guān)工序工藝需解決的特殊任務(wù)。
任職要求:
1.碩士及以上學(xué)歷,電子、物理、有機(jī)化學(xué)、半導(dǎo)體或相關(guān)科學(xué)與工程專業(yè);
2.至少3年CMP的工藝開(kāi)發(fā)或維護(hù)經(jīng)驗(yàn),熟悉EBARA FREX200M2 優(yōu)先;
3.熟知JMP或SPSS等統(tǒng)計(jì)軟件;
4.三年以上CMP工作經(jīng)驗(yàn),機(jī)械、化學(xué)背景,CET-4;
5.決策受CMP及相關(guān)工序工藝影響的產(chǎn)品能否release;
6.熟悉EBARA CMP FREX200M2優(yōu)先考慮;
7.有意愿學(xué)習(xí)新技術(shù)和自我挑戰(zhàn)。