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崗位職責(zé)：
1. 設(shè)備操作與工藝優(yōu)化
主導(dǎo)電子束曝光機（如 JEOL JBX 系列、NuFlare EBM）的日常操作、參數(shù)調(diào)試及量產(chǎn)導(dǎo)入，確保設(shè)備稼動率≥95%。
優(yōu)化曝光工藝（如劑量控制、掃描速度），提升 CD（關(guān)鍵尺寸）均勻性至 ±2nm 以內(nèi)，降低 OVL（套刻偏差）至 ±3nm。
參與光罩研發(fā)，解決工藝窗口窄、缺陷容忍度低等技術(shù)難點，良率提升目標(biāo)≥10%。
2. 技術(shù)研發(fā)與問題解決
開發(fā)多電子束曝光（MEB）、納米壓印光刻（NIL）等先進技術(shù)，制定工藝驗證方案并推動量產(chǎn)。
分析曝光異常（如 Pattern 畸變、缺陷），運用魚骨圖、5Why 等方法定位根源，輸出改進報告并跟蹤閉環(huán)。
與 OPC（光學(xué)鄰近修正）團隊協(xié)作，優(yōu)化版圖數(shù)據(jù)與曝光參數(shù)的匹配性，減少光刻誤差。
3. 數(shù)據(jù)管理與跨部門協(xié)作
實時監(jiān)控曝光數(shù)據(jù)（如電流、劑量），利用 Python/Excel 進行統(tǒng)計分析，生成 SPC（統(tǒng)計過程控制）報告。
調(diào)設(shè)備維護、工藝整合、質(zhì)量檢測等部門，推動產(chǎn)線效率提升及良率優(yōu)化。
參與客戶認(rèn)證（如 HT-PSM、HM-PSM 光罩），提供技術(shù)文檔及工藝參數(shù)支持。
任職要求：
1. 教育背景
本科及以上學(xué)歷，微電子、光學(xué)工程、材料科學(xué)等相關(guān)專業(yè)；碩士及以上學(xué)歷或 3 年以上光罩廠經(jīng)驗者優(yōu)先。
2. 技術(shù)能力
熟悉電子束曝光機操作及工藝調(diào)試，掌握 ebview、CATS 等軟件工具。
了解半導(dǎo)體材料（光刻膠、石英基底）及潔凈室管理規(guī)范，能適應(yīng)倒班及無塵室環(huán)境。
具備 EUV 光罩、相移光罩（PSM）等先進技術(shù)知識，或參與過 OPC、MPC項目者優(yōu)先。
3. 軟技能
具備較強的問題解決能力與跨部門溝通能力，能獨立制定實驗方案并推動執(zhí)行。
熟練使用英語閱讀技術(shù)文檔，具備基礎(chǔ)口語溝通能力（如與設(shè)備供應(yīng)商技術(shù)交流）。