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1、設(shè)備操作與工藝優(yōu)化
（1）主導(dǎo)電子束曝光機(jī)（如 JEOL JBX 系列、NuFlare EBM）的日常操作、參數(shù)調(diào)試及量產(chǎn)導(dǎo)入，確保設(shè)備稼動(dòng)率≥95%；

（2）優(yōu)化曝光工藝（如劑量控制、掃描速度），提升 CD（關(guān)鍵尺寸）均勻性至 ±2nm 以內(nèi)，降低 OVL（套刻偏差）至 ±3nm；

（3）參與光罩研發(fā)，解決工藝窗口窄、缺陷容忍度低等技術(shù)難點(diǎn)，良率提升目標(biāo)≥10%；

2、技術(shù)研發(fā)與問題解決

（1）開發(fā)多電子束曝光（MEB）、納米壓印光刻（NIL）等先進(jìn)技術(shù)，制定工藝驗(yàn)證方案并推動(dòng)量產(chǎn)。

（2）分析曝光異常（如 Pattern 畸變、缺陷），運(yùn)用魚骨圖、5Why 等方法定位根源，輸出改進(jìn)報(bào)告并跟蹤閉環(huán)；

（3）與 OPC（光學(xué)鄰近修正）團(tuán)隊(duì)協(xié)作，優(yōu)化版圖數(shù)據(jù)與曝光參數(shù)的匹配性，減少光刻誤差；

3、數(shù)據(jù)管理與跨部門協(xié)作

（1）實(shí)時(shí)監(jiān)控曝光數(shù)據(jù)（如電流、劑量），利用 Python/Excel 進(jìn)行統(tǒng)計(jì)分析，生成 SPC（統(tǒng)計(jì)過程控制）報(bào)告；

（2）協(xié)調(diào)設(shè)備維護(hù)、工藝整合、質(zhì)量檢測(cè)等部門，推動(dòng)產(chǎn)線效率提升及良率優(yōu)化；

（3）參與客戶認(rèn)證（如 HT-PSM、HM-PSM 光罩），提供技術(shù)文檔及工藝參數(shù)支持。


任職要求：

1、碩士及以上學(xué)歷，微電子、物理、材料科學(xué)等相關(guān)專業(yè)優(yōu)先；

2、 熟悉電子束曝光機(jī)操作及工藝調(diào)試，掌握 ebview、CATS 等軟件工具；

3、了解半導(dǎo)體材料（光刻膠、石英基底）及潔凈室管理規(guī)范，能適應(yīng)倒班及無塵室環(huán)境；

4、具備 EUV 光罩、相移光罩（PSM）等先進(jìn)技術(shù)知識(shí)，或參與過 OPC、MPC項(xiàng)目者優(yōu)先；

5、具備較強(qiáng)的問題解決能力與跨部門溝通能力，能獨(dú)立制定實(shí)驗(yàn)方案并推動(dòng)執(zhí)行；

6、通過CET6，熟練使用英語閱讀技術(shù)文檔，具備基礎(chǔ)口語溝通能力。