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1. 教育背景
學(xué)歷要求：本科及以上學(xué)歷，計算機(jī)科學(xué)、電子工程、自動化、光學(xué)工程、機(jī)器視覺、圖像處理等相關(guān)專業(yè)。
研究方向：具備圖像處理、計算機(jī)視覺、模式識別、深度學(xué)習(xí)、光學(xué)系統(tǒng)設(shè)計等領(lǐng)域的學(xué)術(shù)背景或項(xiàng)目經(jīng)驗(yàn)。
2. 技術(shù)能力
核心技能/編程能力：精通Python/C++/C#等語言，熟悉OpenCV、Halcon、VisionPro、LabVIEW等視覺算法庫或開發(fā)工具。
算法開發(fā)：掌握傳統(tǒng)圖像處理算法（濾波、邊緣檢測、特征提取、模板匹配等）。
熟悉深度學(xué)習(xí)框架（如TensorFlow、PyTorch），具備缺陷檢測、分類、分割等模型的開發(fā)經(jīng)驗(yàn)。
光學(xué)與硬件：熟悉工業(yè)相機(jī)、鏡頭、光源選型及光學(xué)系統(tǒng)搭建。
了解半導(dǎo)體行業(yè)常用傳感器（如高分辨率相機(jī)、紅外/激光傳感器）。
系統(tǒng)集成：熟悉PLC、運(yùn)動控制、機(jī)器人通信（如EtherCAT、Profinet），能實(shí)現(xiàn)視覺系統(tǒng)與自動化設(shè)備的協(xié)同工作。
3. 項(xiàng)目經(jīng)驗(yàn)
5年以上工業(yè)視覺系統(tǒng)開發(fā)經(jīng)驗(yàn)，半導(dǎo)體行業(yè)經(jīng)驗(yàn)優(yōu)先。
主導(dǎo)過以下至少一類項(xiàng)目：高精度視覺定位（亞微米級精度）。
復(fù)雜缺陷檢測（如晶圓表面顆粒、劃痕、薄膜不均勻性）。
3D視覺引導(dǎo)（如芯片封裝對位、鍵合點(diǎn)檢測）。
熟悉從需求分析、算法開發(fā)、系統(tǒng)調(diào)試到量產(chǎn)落地的完整流程。
4. 行業(yè)知識與軟技能
行業(yè)認(rèn)知：了解半導(dǎo)體設(shè)備（如光刻機(jī)、刻蝕機(jī)、檢測設(shè)備）的工作原理及視覺技術(shù)痛點(diǎn)。
問題解決：能針對半導(dǎo)體生產(chǎn)中的高速度、高精度、高穩(wěn)定性需求設(shè)計解決方案。
團(tuán)隊(duì)協(xié)作：具備跨部門（工藝、硬件、軟件）溝通能力，能與客戶或供應(yīng)商對接需求。
語言能力：英語熟練，能閱讀技術(shù)文檔，部分企業(yè)要求英語溝通能力。
適應(yīng)半導(dǎo)體行業(yè)高強(qiáng)度、高精度的工作環(huán)境，部分崗位需接受出差或駐廠支持。
對新技術(shù)敏感，持續(xù)關(guān)注行業(yè)動態(tài)（如先進(jìn)封裝、第三代半導(dǎo)體材料的檢測需求）。