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- 崗位職責(zé)： 1、負(fù)責(zé)微納光學(xué)結(jié)構(gòu)仿真與驗(yàn)證：使用FDTD、RCWA、FEM等電磁仿真方法對微納光學(xué)結(jié)構(gòu)（如衍射光學(xué)元件、CMOS集成微結(jié)構(gòu)等）進(jìn)行建模與性能驗(yàn)證，并輸出仿真分析報(bào)告；評估結(jié)構(gòu)在光譜響應(yīng)、光效率、衍射效率等關(guān)鍵指標(biāo)的影響，進(jìn)行加工容差分析，支持相關(guān)產(chǎn)品的研發(fā)與設(shè)計(jì)優(yōu)化； 2、負(fù)責(zé)微納加工工藝對接與技術(shù)溝通：與供應(yīng)商明確工藝參數(shù)、結(jié)構(gòu)容差與可制造性邊界；跟進(jìn)工藝方案評審與試產(chǎn)驗(yàn)證，驗(yàn)證仿真結(jié)構(gòu)的工藝實(shí)現(xiàn)可行，支持工藝的迭代與優(yōu)化；輸出工藝對接資料、試產(chǎn)總結(jié)等相關(guān)技術(shù)文檔； 3、配合完成光學(xué)系統(tǒng)仿真：使用Zemax等幾何光學(xué)仿真工具完成微納結(jié)構(gòu)與宏觀光學(xué)系統(tǒng)的集成建模，支持系統(tǒng)級性能仿真與評估； 4、負(fù)責(zé)相關(guān)領(lǐng)域的先進(jìn)技術(shù)及工藝的調(diào)研。 - 任職要求： 1、光學(xué)工程、應(yīng)用物理、微納電子、電子工程等相關(guān)專業(yè)碩士及以上學(xué)歷； 2、具備扎實(shí)的物理光學(xué)、微納光學(xué)、電磁場理論及材料科學(xué)等相關(guān)基礎(chǔ)知識； 3、熟練掌握至少一種電磁場仿真軟件（如Lumerical FDTD、RCWA、COMSOL等），熟悉微納結(jié)構(gòu)建模、材料參數(shù)設(shè)定、邊界條件設(shè)置等，并具備較強(qiáng)的分析能力； 4、熟悉Zemax等光學(xué)仿真軟件的基礎(chǔ)使用，能夠進(jìn)行簡單的光學(xué)系統(tǒng)建模與驗(yàn)證； 5、具備基礎(chǔ)的半導(dǎo)體工藝與材料知識、了解光刻、納米壓印等微納加工工藝優(yōu)先； 6、工作細(xì)致，有責(zé)任心，具備良好的溝通與協(xié)作能力，有較強(qiáng)的學(xué)習(xí)能力和主觀能動性，愿意深入鉆研和挖掘新技術(shù)。