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一、核心能力：
▲薄膜沉積原理: 深刻理解PECVD、ALD、PVD、CVD等薄膜沉積技術(shù)原理。
▲薄膜材料特性: 熟悉SiO?、SiNx、Al?O?、金屬薄膜等常用材料的物理、化學(xué)、電學(xué)特性。
▲薄膜生長控制: 能夠優(yōu)化薄膜厚度、均勻性、應(yīng)力、界面質(zhì)量、階梯覆蓋能力。
▲鈍化層優(yōu)化: 深入理解表面態(tài)、界面陷阱對T2SL探測器暗電流的影響，優(yōu)化鈍化層工藝。
▲設(shè)備操作與維護(hù): 熟練操作薄膜沉積設(shè)備，進(jìn)行日常維護(hù)和故障排除。
二、學(xué)科基礎(chǔ)能力：
▲碩士及以上學(xué)位: 材料科學(xué)與工程、微電子學(xué)、物理學(xué)、化學(xué)。
▲專業(yè)知識(shí): 薄膜物理與技術(shù)、半導(dǎo)體工藝、表面化學(xué)。
三、崗位待遇：
▲具體薪資面試后定職級(jí)確定，每月5日準(zhǔn)時(shí)發(fā)薪。
▲入職繳納五險(xiǎn)一金，以綜合應(yīng)發(fā)薪資為基數(shù)進(jìn)行實(shí)繳。
▲上班時(shí)間：8小時(shí)制，周末雙休，節(jié)假日按照法定休。
▲入職滿1年享七天帶薪年假。
▲入職每滿1年增加工齡獎(jiǎng)金200元/月，10年封頂。
▲節(jié)假日福利禮包。
▲科研型企業(yè)，專家?guī)ш?duì)，工作氛圍良好。
▲園區(qū)內(nèi)配套自助餐廳，可低價(jià)享用自助午餐。
【以技術(shù)經(jīng)驗(yàn)及技術(shù)水平定級(jí)、定薪，具體薪資金額可詳談】