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專業(yè)方向：微電子學(xué)、材料科學(xué)與工程、物理、化學(xué)工程 相關(guān)領(lǐng)域
核心經(jīng)驗(yàn)：擁有3年及以上半導(dǎo)體行業(yè)，先進(jìn)工藝干法蝕刻 (Dry Etching) 量產(chǎn)或研發(fā)相關(guān)經(jīng)驗(yàn)，熟悉設(shè)備硬件（如電極、氣體管路、射頻匹配）對工藝的影響。
設(shè)備精通：熟練掌握主流干法蝕刻設(shè)備(AMAT/LAM/Tel) 的操作，維護(hù)和工藝調(diào)試，特別是用于高精度圖形蝕刻的設(shè)備（如 ICP, RIE, CCP 類型），
關(guān)鍵技能：
1：工藝開發(fā)能力：精通設(shè)計(jì)實(shí)驗(yàn)（DOE），能獨(dú)立進(jìn)行工藝參數(shù)優(yōu)化（如 RF功率、壓力、氣體比例、溫度、偏置電壓等），以達(dá)到關(guān)鍵的工藝指標(biāo)（CD均勻性、CD bias、選擇比、側(cè)壁角度、粗糙度、缺陷控制）
2： 表征與分析：熟練掌握用于光罩蝕刻后表征的關(guān)鍵設(shè)備和技術(shù)（CD SEM,AFM,EDX,XPS等）
3：良率提升：有通過工藝優(yōu)化、缺陷控制和設(shè)備維護(hù)提升光罩蝕刻良率的成功經(jīng)驗(yàn)。
4：數(shù)據(jù)分析與工具：精通使用數(shù)據(jù)分析軟件（如 JMP, Minitab, Excel 高級功能）進(jìn)行工藝數(shù)據(jù)分析、統(tǒng)計(jì)過程控制（SPC）和建立工藝控制規(guī)范，能撰寫清晰、專業(yè)的實(shí)驗(yàn)報(bào)告和技術(shù)文檔（SOP等）
5：協(xié)作與溝通:優(yōu)秀的團(tuán)隊(duì)協(xié)作能力，能夠與設(shè)備工程師、質(zhì)量工程師、制造工程師、客戶服務(wù)團(tuán)隊(duì)等其他部門有效溝通合作。
6：良好的口頭和書面溝通能力，能清晰地向技術(shù)和管理層匯報(bào)進(jìn)展、問題和解決方案
加分項(xiàng)：具備掩模版/（mask/Reticle）干法蝕刻工藝開發(fā)、優(yōu)化和量產(chǎn)轉(zhuǎn)移的經(jīng)驗(yàn)。熟悉光罩材料體系（如鉻基、鉬硅氧、相移材料等）及其蝕刻特性