崗位職責(zé):
1.負(fù)責(zé)存儲(chǔ)器研發(fā)所需的先進(jìn)光刻工藝研發(fā);
2.依據(jù)研發(fā)需求,制定光刻工藝的研發(fā)計(jì)劃,建立并優(yōu)化工藝條件,保障整體研發(fā)進(jìn)度;
3.依據(jù)工藝整合的需求,制定相關(guān)工藝規(guī)格,對(duì)工藝中存在的課題進(jìn)行攻關(guān),拓展工藝窗口,提升產(chǎn)品良率及性能;
4.引入和評(píng)估驗(yàn)證新材料、新機(jī)臺(tái)、新功能,并降低工藝成本;
5.分析數(shù)據(jù)并總結(jié)和匯報(bào)研發(fā)進(jìn)展,撰寫相關(guān)論文和申請(qǐng)專利。
任職要求:
1. 碩士研究生以上學(xué)歷,理工科背景,物理/光學(xué)/化工/微電子/材料等理工類相關(guān)專業(yè)
2. 3年以上邏輯或存儲(chǔ)半導(dǎo)體行業(yè)光刻領(lǐng)域工作經(jīng)驗(yàn),有研發(fā)工作經(jīng)歷優(yōu)先;
3. 熟悉半導(dǎo)體工藝流程與光刻工藝。熟悉光刻工藝中的工藝窗口優(yōu)化,光學(xué)臨近效應(yīng)修正,線寬和套刻的控制與改進(jìn),光阻的評(píng)估與驗(yàn)證;
4. 較強(qiáng)的溝通表達(dá)能力、組織協(xié)調(diào)能力和團(tuán)隊(duì)合作精神;
5. 流暢的英文閱讀和寫作能力。