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工作職責(zé) 電子級光刻膠原材料研發(fā) 1.負(fù)責(zé)光致產(chǎn)酸劑（PAG）和功能單體的分子設(shè)計、合成路線開發(fā)及工藝優(yōu)化，確保產(chǎn)品滿足半導(dǎo)體級光刻膠（如KrF、ArF、EUV）或顯示面板光刻膠的性能要求（如金屬離子殘留<10 ppb、低顆粒度、高批次一致性）。 2.主導(dǎo)從實驗室小試到中試放大的全流程研發(fā)，優(yōu)化純化工藝（如重結(jié)晶、柱層析、超濾等），解決產(chǎn)物穩(wěn)定性、雜質(zhì)控制、收率提升等關(guān)鍵問題，確保產(chǎn)品達到電子級（G2及以上）純度標(biāo)準(zhǔn)。 3.參與產(chǎn)業(yè)化轉(zhuǎn)移，制定規(guī)模化生產(chǎn)工藝（反應(yīng)條件、純化方法、質(zhì)量控制點），協(xié)助解決量產(chǎn)中的技術(shù)難題（如副產(chǎn)物抑制、成本優(yōu)化、工藝安全評估）。 任職資格 1.碩士或博士學(xué)歷，有機化學(xué)、高分子化學(xué)、材料化學(xué)及相關(guān)專業(yè)，2年以上光刻膠或電子化學(xué)品研發(fā)經(jīng)驗。 2.具備電子級化學(xué)品純化經(jīng)驗(如重結(jié)晶、柱層析、蒸餾、超濾等)。 3.精通多步有機合成(如磺酸鹽類PAG的合成、丙烯酸酯類單體修飾)。 4.熟悉光刻膠組成（PAG、單體、樹脂、添加劑）及光化學(xué)反應(yīng)機理（如酸擴散機制、曝光能量調(diào)控）； 5.了解半導(dǎo)體行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)（如SEMI G2/G3）及客戶需求（如TSMC、三星等廠商對原材料的技術(shù)規(guī)范）。 6.能閱讀/撰寫英文技術(shù)文檔，具備跨部門協(xié)作能力，能與工藝、分析、生產(chǎn)團隊高效對接。 7.抗壓能力強，能針對技術(shù)難題提出創(chuàng)新解決方案。