崗位描述:
1.參與先進光刻工藝開發(fā)工作
2.研發(fā)次世代產(chǎn)品與良率優(yōu)化
3.工藝配方設(shè)定與優(yōu)化,異常產(chǎn)品分析、處理與 Hold Rate/Time 改善
任職要求:
1.碩士及以上學(xué)歷,光學(xué)、物理等理工科相關(guān)專業(yè)
2.兩年以上半導(dǎo)體光刻制程研發(fā)相關(guān)經(jīng)驗優(yōu)先
3.英語四級及以上
4.具較強的學(xué)習(xí)能力、抗壓能力、團隊協(xié)作能力