企業(yè)簡介常州瑞擇微電子科技有限公司（REC）成立于2008年，主要研發(fā)、生產、銷售光掩模工藝設備，是江蘇省高新技術企業(yè)。REC擁有完整的自動化設備研發(fā)和加工能力，設計團隊包括液路工藝、機械、電氣、自動化和控制軟件等設計人員。公司加工車間配置有多臺普通和數字機械加工設備，基本滿足公司部件加工需求。此外，公司還搭建有10萬級潔凈廠房，配備了18兆歐純水系統(tǒng)，用于公司設備的組裝調試和潔凈部件的生產加工。2008年底，由REC自主研發(fā)的“130納米級光掩模清洗設備”，打破了國外該領域的壟斷，填補了國內空白，各項檢測指標均已達到或超過國際領先水平，該設備被評為“江蘇省首臺（套）重大裝備產品”。2013年10月，由REC承擔的國家科技重大專項（02專項）所研發(fā)生產的“90納米光掩模清洗設備”成功進入終端客戶生產線。公司發(fā)展至今，已研發(fā)、生產、銷售多臺光掩模濕法工藝設備，分別應用于中芯國際集成電路制造（上海）有限公司、無錫華潤微電子有限公司、中國科學技術大學、深圳清溢光電股份有限公司等國內重要集成電路制造企事業(yè)的生產線，并受到業(yè)內一致好評。此外，REC還成功研發(fā)了CO2發(fā)泡機、全氟泵、在線紅外加熱器等部件，廣泛應用于硅晶圓、LED、MEMS、光伏、平板顯示等行業(yè)。REC在自主研發(fā)的過程中，已獲得自主知識產權33項，先后承擔了部、省、市、區(qū)各級的科技研發(fā)項目，并與中國科學院微電子研究所、無錫華潤微電子掩模工廠、中芯國際、韓國海力士、以色列CI-SEMI、芬蘭Picosun等多家國內外企事業(yè)單位合作，共同研究開發(fā)光掩模清洗新工藝設備以及微納加工工藝設備。REC希望通過與客戶的緊密合作及技術創(chuàng)新，根據客戶實際需求，結合自身優(yōu)勢，在相關領域取得更大的發(fā)展，大幅度提高設備的性價比，成為客戶發(fā)展的堅實后盾，為我國蓬勃發(fā)展的半導體事業(yè)爭光添彩。