崗位說明:
Canon 深紫外光刻機及TEL 全自動涂膠顯影軌道機(Tracker)(二期核心設(shè)備)工藝、以及SUSS/Sawatec高精度涂膠顯影工藝
崗位要求:
研究生教育學(xué)歷,碩士及以上學(xué)位
1.微電子學(xué)與固體電子學(xué)、電子科學(xué)與技術(shù)、物理學(xué)、材料學(xué)等相關(guān)專業(yè),碩士及以上學(xué)歷;
2. 3年以上FAB光刻工藝和設(shè)備維護經(jīng)驗,熟悉stepper(有佳能 DUV光刻機使用或維護經(jīng)驗者優(yōu)先考慮)、tracker機臺使用和維護,有OPC經(jīng)驗為佳。
3. 有較強的組織、協(xié)調(diào)與溝通能力,有良好的團隊合作精神和踏實認真的工作態(tài)度;獨立工作分析和解決問題的能力.
4. 身體健康,熱愛科研,有較強的工作責(zé)任心。
崗位職責(zé):
1.負責(zé)AEMD平臺DUV工藝事宜;
3.能夠獨立解決設(shè)備故障、制定并按時完成設(shè)備的維護保養(yǎng)工作;
4.培訓(xùn)DUV設(shè)備的操作和使用規(guī)范;
5.能夠為AEMD DUV工藝技術(shù)的開發(fā),制定新工藝流程和方法;
6.DUV工藝流程優(yōu)化的管理,定期更新工藝文件
7.完成領(lǐng)導(dǎo)交辦的其他工作。
崗位待遇:
參照學(xué)校及學(xué)院相關(guān)規(guī)定執(zhí)行/面議
工作地點:上海市閔行區(qū)東川路800號上海交通大學(xué)內(nèi)(交大徐匯校區(qū)可坐班車直達)